Erratum: Microstructure of silicon-incorporated carbon films with various silicon concentrations deposited by hybrid magnetron sputtering/chemical vapor deposition (Ceramics International (2013) 39 (5585-5590))

Hsin Chung Cheng, Da Yen Wang, Wen Chien Lan, Pei Yi Wang, Shih Fu Ou, Ya Juh Su, Keng Liang Ou

研究成果: 雜誌貢獻評論/辯論同行評審

原文英語
頁(從 - 到)8935
頁數1
期刊Ceramics International
40
發行號6
DOIs
出版狀態已發佈 - 7月 2014

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  • 電子、光磁材料
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  • 製程化學與技術
  • 表面、塗料和薄膜
  • 材料化學

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