電化學方式形成不同氧化膜層厚度及孔徑大小於鈦金屬表面對類造骨細胞之影響

本研究目的在探討鈦金屬表面不同氧化膜層厚度及不同孔徑大小對類骨細胞MG-63行為的影響。實驗分成不同氧化膜厚度及不同孔徑大小兩組，皆以電化學方式之陽極氧化處理，前者是在定電壓下分別形成40mm，80mm及120mm之氧化膜厚度，而後者則以交流電在特定時間內分別形成10μm，50μm及100μm的孔徑。經研究結果顯示，當鈦式片之氧化膜層厚度增加時，造成金相結晶結構中氧／鈦厚子組成比例會先增後降及表面接觸能力的改變。在不同孔徑組，細胞初步附連以100μm孔徑之細胞濃度吸光值最高且和最低之10μm孔徑有顯著差異，細胞增殖後期則顯示兩種machined surfaces （rough，smooth）及10μm孔徑之表面細胞濃度較高。氧化膜在適當厚度內對細胞的附連及增殖是有利的，過厚則由於金相、結晶性、氧鈦原子組成比結構及表面物理性質的改變，並不利於細胞行為。而細胞的附連，除了表面接觸角外，表面粗糙度及所增加的表面積圖能亦扮演相當重要的角色。