鈦基植體表面生成奈米多孔性二氧化鈦層之機制研究

鈦金屬植體經電化學陰極處理及後續陽極處理其表面形成奈米多孔性二氧化鈦，經X 光光電子能譜儀(XPS)、X-ray薄膜繞射分析儀(TF-XRD)、橫截面穿透式電子顯微鏡(XTEM)及掃描式電子顯微鏡(SEM)進一步分析，了解奈米氫化鈦於電化學處理中對形成奈米多孔性二氧化鈦薄膜之影響。結果發現鈦金屬經電化學陰極處理後其表層會產生一層奈米氫化鈦薄膜，再經陽極處理後奈米氫化鈦會直接溶出，並且產生奈米多孔性二氧化鈦。於電化學處理產生奈米多孔性二氧化鈦的過程中，奈米氫化鈦扮演一個重要的角色。經陰極處理及陽極處理的鈦金屬表層不只有奈米氫化鈦層的產生，且同時產生奈米多孔性的氧化層。奈米多孔性二氧化鈦不僅具良好的生物活性及生物相容性，其表面的奈米多孔結構更能促使植體與骨組織的連結，而達到骨整合的目的。